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荷兰光刻机巨头ASML公司近日宣布将会优先向Intel公司交付其研发的新型高数值孔径极紫外光刻机。据悉,每台新机器的成本超过3亿美元,可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。ASML官方社交媒体账号发布了一张现场照片。图可以看到,光刻机的一部分被放在一个保护箱中。箱身绑着一圈红丝带,正准备从其位于荷兰埃因霍温的总部发货。"耗时十年的开创性科学和系统工程值得鞠一躬!我们很高兴也很自豪能将我们的第一台高数值孔径(HighNAEUV)的极紫外光刻机交付给Intel。"ASML公司说道。据了解,高数值孔径的极紫外光刻机组装起来比卡车还大,需要被分装在250个单独的板条箱中进行运输,其中包括13个大型集装箱。据估计,该光刻机将从2026年或2027年起用于商业芯片制造。公开资料显示,NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率,以及最高能达到的工艺节点。一般来说,金属间距缩小到30nm以下之后,也就是对应的工艺节点超越5nm,低数值孔径光刻机的分辨率就不够了,只能使用EUV双重曝光或曝光成形(patternshaping)技术来辅助。这样不但会大大增加成本,还会降低良品率。因此,更高数值孔径成为必需。ASML9月份曾宣布,将在今年底发货第一台高数值孔径EUV光刻机,型号"TwinscanEXE:5000",可制造2nm工艺乃至更先进的芯片。延伸阅读

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